1、Uses: As an activator of phosphor and dopant of garnet.
用途：用于熒光粉的活化劑和柘榴石的添加劑。

2、The implanted dopant has a first dopant profile in the silicon layer.
所注入的摻雜劑在硅層中具有第一摻雜劑分布。

3、These n-type dopant concentrations can be achieved using neutron transmutation doping techniques.
這些n型攙雜濃度能使用中子嬗變攙雜(ntd)技術(shù)來取得。

4、In Part I, we want to clarify the possible mechanism that active the dopant at low temperature.
第一部分，我們想研究低溫活化的可能機(jī)制。

5、The spread uniformity of the dopant in the film surface will vary with the doping time.
又摻雜劑在膜表面分布均勻程度與摻雜時間有關(guān)。

6、Optimizing dopant diffusion processes.
如何優(yōu)化摻雜擴(kuò)散制程。

7、The dopant blocking superlattice may include a plurality of stacked groups of layers.
該摻雜劑阻擋超晶格可以包括多個層疊的層組。

8、Uses:As an activator of phosphor and dopant of garnet.
用途：用于熒光粉的活化劑和柘榴石的添加劑。

dopant翻譯